美国SPIE 先进光刻技术展览会 SPIEADVANCEDLITHOGRAPHY

Name: 美国SPIE 先进光刻技术展览会
Start: 2026-02-22
End: 2026-02-26
Location: 美国圣何塞麦克内里会议中心

2026-02-22 · 2026-02-26 · 圣何塞 · 美国圣何塞麦克内里会议中心

「美国SPIE 先进光刻技术展览会」（SPIE ADVANCED LITHOGRAPHY）是圣何塞举办的设计专业展会。展会聚焦设计领域，展品涵盖电子设计与元件。本届于2026年2月22日至26日在San Jose McEnery 会议中心举行，由SPIE (International Society for Optical Engineering)主办，一年一届。吸引13224名专业观众；151家参展企业。展会为设计上下游企业、经销商与采购商提供产品展示、技术交流与商贸对接平台。

电子设计与元件